Losungswachstum von Siliziumschichten auf Siliziumdioxid und Charakterisierung der Schichten

Diss.

Nicolas Nagel

ЦБ ДБ 8468

Местоиздаване

Stuttgart

Година на издаване

1993

Страници

141 p. ill.

Класификационен индекс

УДК	Тематика
539.2	Структура на молекулярните системи

Nagel, N. Losungswachstum von Siliziumschichten auf Siliziumdioxid und Charakterisierung der Schichten, , 1993, 141 p. ill..

Nagel, N. . Losungswachstum von Siliziumschichten auf Siliziumdioxid und Charakterisierung der Schichten. Stuttgart: , 1993, 141 p. ill..

Nagel, N. (1993) Losungswachstum von Siliziumschichten auf Siliziumdioxid und Charakterisierung der Schichten, Stuttgart: , 141 p. ill.

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